何があったか
解像力20nm以下の微細加工が可能なナノインプリント装置を開発する米社の完全子会社化に2014年2月5日合意。半導体露光装置の新方式を取り込んだ。
キヤノンの、この前後
同じころ、ほかの会社では
この記録は、企業のプレスリリース・IR資料・公式サイトなど、公開されている情報だけを元に作成しています。網羅や最新性を保証するものではありません。誤りを見つけられた場合は About のフォームからお知らせください。
解像力20nm以下の微細加工が可能なナノインプリント装置を開発する米社の完全子会社化に2014年2月5日合意。半導体露光装置の新方式を取り込んだ。
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