キヤノン、ナノインプリント半導体製造装置を発売

何があったか

2023年10月13日、ナノインプリントリソグラフィ技術を使った「FPA-1200NZ2C」を発売。最小線幅14nmに対応し、2nmノード相当の10nmレベルへの展開も見込む。

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