キヤノン、ウエハー平坦化技術を世界初実用化

何があったか

ナノインプリント技術を応用したIAP技術で、直径300mmウエハー全面の凹凸を5nm以下に抑える平坦化を世界初実用化。2027年中の装置製品化を予定する。

SoichiroNEWFOR 編集

2024年に初出荷した装置と同じナノインプリント技術を、今回は平坦化へ振り向けています。一つの技術に出口を二つ用意する形で、製品化は2027年。育てる時間の取り方が長いように読めます。

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